본 발명은 스캔에 인가되는 패턴의 조절과 캡쳐된 후 빠져나가는 응답의 천이감소를 통합하여 기존의 분리된 방법에 비해 월등히 좋은 천이 감소효과를 보일 수 있는 통합 스캔천이 감소회로에 관한 것이다. 이를 위해 LFSR(Linear Feedback Shifter Register)의 천이 경향을 감시하여 저전력 패턴을 생성시켜 주는 TMW(Transition Monitoring Window) 패턴생성기를, 스캔으로부터 빠져 나가는 응답(response)이 일으키는 이동 천이를 줄이기 위한 계층적 스캔 구조와 통합하였고 ISCAS'89 벤치마크 회로를 이용하여 실험하였다. 그 결과 TMW에 의해 평균 약 60% 정도의 스캔 인가시 천이를 감소시킨 것을 볼 수 있고 또한 계층 스캔 체인의 도입으로 인해 단순히 TMW만 적용한 구조에 비해 추가적으로 약 25% 정도 더 저전력 효과를 얻었음을 확인할 수 있다. 캡쳐 된 후 스캔으로부터 배출 되는 패턴은 계층 스캔 체인을 적용하지 않았을 때와 계층 스캔 체인이 적용되었을 때의 천이수를 기준으로 비율을 계산하였는데, 평균 약 26% 정도의 천이 절감 효과를 얻을 수 있었다. BIST, 스캔, 천이