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산학협력단

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제목
레지스트 하층막용 조성물, 이를 이용한 반도체 집적회로 디바이스의 제조방법 및 이에 따라 제조된 반도체 집적회로 디바이스
출원인
제일모직주식회사, 연세대학교 원주산학협력단
출원일
2013.01.18
공개일
2014.07.28
게시글 내용
일 구현예에 따르면, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 유기실란계 화합물; 및 용매를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물을 제공한다. [화학식 1]상기 화학식 1에서,R1 및 R2의 정의는 명세서에 기재된 바와 같다.
첨부
공개전문PDF
  • 자료출처 : KIPRIS (https://www.kipris.or.kr)
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