본 발명은 플라즈마 강화 기상 증착에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 서로 연통된 제 1 공간 및 제 2 공간을 가지는 공정 챔버; 상기 제 1 공간 내에 제공되고 가변 저항 재료막이 형성될 기판을 지지하는 기판 홀더; 상기 제 2 공간 내에 플라즈마를 유도하도록 상기 공정 챔버에 결합되는 플라즈마 발생 장치; 상기 챔버의 상기 제 2 공간으로부터 상기 제 1 공간으로 확산되는 상기 플라즈마의 이온종 필터링을 수행하는 이온종 스크리닝 부재; 상기 제 1 공간으로 상기 가변 저항 재료막의 구성 원소를 포함하는 전구체 가스를 포함하는 제 1 공정 가스를 펄스 공급하는 제 1 가스 공급부; 상기 제 2 공간으로 상기 가변 저항 재료막 또는 상기 전구체 가스의 산화 또는 환원을 위한 반응성 가스를 포함하는 제 2 공정 가스를 공급하는 제 2 가스 공급부; 및 상기 제 2 공간으로부터 상기 제 1 공간으로 기체 흐름을 유도하도록 상기 공정 챔버에 결합되는 배기부를 포함하는 플라즈마 강화 기상 증착 장치가 제공된다.