노광용 마스크는 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 배치되고, 광의 위상을 변화시키는 위상 시프트 패턴, 상기 위상 시프트 패턴이 배치된 상기 투명 기판 상에 배치되는 유전체층, 및 상기 유전체층 상에 배치되는 음굴절율 메타물질층을 포함한다. 기판을 제조하는 방법은 포토 레지스트 층이 형성된 기판 상에 상기 노광용 마스크를 상기 기판과 마주보도록 위치시키는 단계, 상기 노광용 마스크를 통해 상기 포토레지스트 층에 광이 전달되며, 상기 유전체층 및 상기 음굴절율 메타물질층으로 인하여 발생되는 플라즈모닉 공명 또는 음향양자 공명으로 인하여 상기 광의 소산파가 소멸하지 않고 상기 포토 레지스트층로 전달되는 단계, 및 현상액을 이용하여 상기 포토 레지스트 층을 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.