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본 발명은 상전이 광 이성질체 화합물을 제공하며, 상전이 광 이성질체층에 선택적 광 조사 공정을 진행한 후 도전성 물질을 증착함으로써, 마스크 공정 없이 금속 패턴의 형성이 가능하다. 따라서, 마스크 공정 없이 투명 전계발광 표시장치의 투명영역을 제외하고 발광영역에 제 2 전극을 선택적으로 증착할 수 있으며, 이에 따라 투명 전계발광 표시장치의 투과율 저하 문제를 방지할 수 있다.
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