OES 장치와 이를 포함하는 플라즈마 처리 장치, 및 반도체 장치의 제조 방법이 제공된다. 플라즈마 처리 장치는, 웨이퍼에 대하여 플라즈마 공정을 수행하는 챔버, 상기 챔버 내 생성되는 플라즈마 광을 투과하는 뷰포트(viewport), 상기 뷰포트와 회전축을 중심으로 회전 가능하도록 결합하는 회전 모듈, 및 상기 회전 모듈과 결합되어 상기 플라즈마 광을 제공받는 OES(Optical Emission Spectroscopy) 장치를 포함하되, 상기 회전 모듈은, 상기 뷰포트와 대향하는 제1 면과 상기 OES 장치와 대향하는 제2 면을 포함하고, 상기 제1 면은 상기 플라즈마 광의 일부를 차단하는 제1 차단막과 상기 제1 차단막에 의해 상기 회전 모듈의 내부가 노출되는 제1 개구를 포함하고, 상기 제2 면은 상기 제1 개구와 이어지는 제2 개구를 포함한다.