나노 구조체 제조방법 및 이를 이용하여 제조한 나노 구조체가 개시된다. 본 발명은 포토리소그래피의 분해능의 한계를 극복하도록, 기판 상부에 미리 설정된 패턴에 따라 금속 마스크를 패터닝하고, 기판에 패터닝된 금속 마스크의 주변에 발생되는 전기장의 세기가 금속 마스크의 일부 부위에서 상대적으로 높게 형성되는 국부 전기장을 이용하여 기판의 표면 중 금속 마스크가 패터닝된 표면 이외에 해당하는 외부에 노출된 기판의 표면을 건식 에칭함으로써, 금속 마스크의 크기보다 작은 나노 구조체를 제조할 수 있다.
