본 발명은 화학 기상 증착 시스템에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 화학 기상 증착 시스템은 피처리체가 수용되는 반응 공간을 제공하는 반응 챔버 및 상기 반응 챔버 내에서 상기 피처리체의 위치를 제어하는 샘플 홀더를 포함하는 화학 기상 증착 장치; 및 상기 화학 기상 증착 장치를 고정 및 지지하며, 상기 반응 챔버가 지면에 수직한 제 1 방향 또는 상기 지면과 수평한 제 2 방향에 정렬되도록 상기 화학 기상 증착 장치를 회전시키는 장치용 거치대를 포함하며, 상기 샘플 홀더는 제 1 단부와 제 2 단부를 포함하며, 상기 샘플 홀더의 제 1 단부는 상기 반응 챔버의 일단부에 고정되며, 상기 샘플 홀더의 상기 제 2 단부는 상기 제 1 방향과 상기 제 2 방향에서 상기 반응 챔버 내부로 공급될 기체의 흐름 방향과 평행하도록 상기 피처리체를 고정시킬 수 있다.