본 발명은 성장 기판의 화학적 표면 처리에 의한 그래핀 층의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 그래핀 층의 제조 방법은 그래핀의 핵생성 자리(nucleation site)를 제공하는 표면을 갖는 금속 기판을 준비하는 단계; 상기 금속 기판의 상기 표면에 유기 용매, 산성 용액 또는 이의 혼합 용액을 포함하는 처리 용액을 제공하여 상기 표면의 거칠기 제어 및 이물질 제거 중 적어도 어느 하나의 처리를 통해 상기 핵생성 자리를 개질시키는 단계; 상기 금속 기판의 상기 표면 상에 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition)에 의해 그래핀 층을 형성시키는 단계를 포함한다.
