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산학협력단

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제목
전기장 셰이핑 장치 및 전기장을 이용한 타겟 처리 장치
출원인
연세대학교 산학협력단
공고일
2021.11.05
출원일
2020.02.25
공개일
2021.09.02
게시글 내용
 본 실시예에 의한 전기장 셰이핑 장치는 기판과, 기판 상에 위치하는 제1 전극과, 제1 전극과 이격된 제2 전극과, 제1 전극과 제2 전극에 전압을 제공하는 전원(power source) 및 제1 전극을 코팅(coating)하는 절연체(insulating material)를 포함하며, 절연체는 제1 전극과 제2 전극 사이에 형성되는 전기장을 셰이핑하는 하나 이상의 홀(hole)들이 형성된다. 

전기장 셰이핑 장치 및 전기장을 이용한 타겟 처리 장치 대표 이미지

첨부
공개전문PDF 공고전문PDF
  • 자료출처 : KIPRIS (https://www.kipris.or.kr)
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