본 발명은 불꽃 화학적 기화 증착법(Flame Chemical Vapour Deposition; FCVD)을 이용한 나노구조 합성 및 표면 개질을 통하여, 비정질 탄소 박막을 이용하여, 박막 밑의 기지(matrix) 종류에 상관없이, 박막 밑의 기지가 원래 가지고 있었던 광학적 특징에 해당하는 에너지의 세기를 증폭할 수 있는 방법, 및 상기 방법으로 제조된 광학적 에너지가 증폭된 구조체에 대한 것이다. 본 발명은 불꽃 화학적 기화 증착법을 이용하여 기지 표면에 비정질 탄소 나노박막을 증착시켜 수 초 안에 완성할 수 있어 공정 속도가 빠르고 간단하며, 이렇게 제조된 기지는 광학적으로 입사빔이 물질 안으로 들어갈 때뿐만 아니라, 물질 안에서 다시 방출될 때에도 포톤의 개수를 늘릴 수 있을 만큼 충분한 증폭 역할을 할 수 있어 광학적 에너지의 세기와 강도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.